1일 삼성전자의 핵심 반도체 기술이 중국 반도체 기업으로 유출된 사건과 관련해, 전직 삼성 임원 양모 씨가 최근 구속되면서 산업계에 큰 파장이 일고 있다.

검찰에 따르면 양씨는 삼성전자에서 퇴직한 뒤 중국의 최대 D램 제조사인 창신메모리테크놀로지(CXMT)로 이직해, 삼성의 18나노미터급 D램 공정 기술을 해당 기업이 실제 양산 공정에 적용하도록 지원한 혐의를 받고 있다.

이번 사건은 단순히 기술 문건을 빼돌린 차원을 넘어, 유출된 기술을 실제 생산 과정에 활용할 수 있도록 도운 행위까지 처벌 대상으로 삼은 첫 사례라는 점에서 주목된다. 검찰은 “해외 기업의 기술 추격을 가속화하는 중대한 산업 스파이 범죄”라며 수사의지를 강하게 드러냈다.

양씨는 삼성 재직 시절 축적한 경험과 네트워크를 활용해 CXMT에 기술자문을 제공한 것으로 알려졌다. 특히 삼성 내부에서만 사용되는 공정 노하우와 장비 운용 기술이 CXMT에 전해졌다는 의혹이 제기되고 있다. 업계에서는 이 같은 행위가 삼성의 기술 우위를 크게 위협할 수 있다고 우려한다.

앞서 같은 사건과 관련해 삼성 출신 김모 부장이 CXMT로 이직하면서 기술 문건을 직접 유출한 혐의로 징역 6년과 벌금 2억 원을 선고받은 바 있다. 이번에 양씨가 구속되면서 ‘기술을 직접 빼돌린 자’뿐 아니라 ‘유출된 기술을 활용하도록 도운 자’까지 처벌 범위가 확대될 가능성이 커졌다.

산업통상자원부 관계자는 “D램 등 반도체 공정은 국가 핵심 기술로 지정돼 있으며, 유출 시 산업 경쟁력에 막대한 손실을 초래한다”며 “재발 방지를 위한 보안 강화 대책을 추진 중”이라고 밝혔다.

전문가들은 이번 사건을 계기로 해외 기업의 스카우트 전략에 대한 제도적 대응이 필요하다고 지적한다. 한 반도체 업계 관계자는 “중국 기업은 파격적인 연봉과 조건을 내세워 한국 기술 인력을 적극 영입하고 있다”며 “국가 차원에서 인력 유출 관리와 보안 강화가 절실하다”고 말했다.